Nous avons introduit le blanc diamant CVD de 6 pouces, utilisant la technologie de dépôt chimique en phase vapeur (MPCVD) de plasma micro-ondes de haute puissance de 915MHz. Ce processus ionise les gaz contenant du carbone (tels que le méthane) et l'hydrogène à travers les micro-ondes, permettant le dépôt d'ions carbone sur des substrats tels que des plaques de diamant, de silicium ou de molybdène. Cela se traduit par la croissance homoépitaxiale ou hétéroépitaxiale de films de diamants polycristallins monocristallins de haute pureté ou de grande surface.
Grâce à notre logiciel de contrôle numérique propriétaire, nous pouvons quantifier et ajuster avec précision les conditions de croissance du diamant, permettant la production évolutive de diamants monocristallins ou polycristallins avec diverses spécifications et paramètres.
Nos avantages:
Conductivité thermique plus élevée et contamination minimale: notre processus minimise les sources de contamination dans la chambre, ce qui entraîne une contamination inférieure des métaux, une pureté plus élevée et une granularité de surface uniforme. La conductivité thermique de notre diamant surpasse celle des autres méthodes de fabrication.
Efficacité de production plus élevée: La sortie par unité de notre équipement de 915MHz est 3 à 4 fois supérieure à celle des systèmes conventionnels de 2.45GHz, permettant une adaptation rentable aux applications en aval et réduisant le coût de fabrication global des dispositifs à base de diamant.
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